陽極氧化的初始電壓對膜的結構影響很大。電壓較高時生成的氧化膜孔體尺寸增大而孔隙率降低;電壓過高使零件的棱角邊緣容易被擊穿,而且電流密度也會過大,導致氧化膜粗糙、疏松、燒焦。因此,陽極氧化開始時電壓應逐步升高。
在其他條件不變的情況下,提高陽極電流密度,可以加快氧化膜的生成,縮短氧化時間,膜層較硬,耐磨性好。電流密度過高時溶液溫升加快,膜的溶解速度也增大,容易燒壞零件。一般情況下,電壓以15V~20V為宜,而電流密度控制在1.0A/ dm2~5 A / dm2。
鋁化學氧化
陽極氧化膜特性純鋁的膜層厚度可達40um,一般防護—裝飾性氧化膜厚為5~20 um。硫酸氧化膜多孔,吸附能力較強,孔隙率為10~~15%,膜層適合染色或電解著色,用于裝飾或作識別標記。為提高膜的防護性能應進行封閉處理,在使用條件惡劣或耐蝕性要求較高時,還需要補充涂漆。漆膜與氧化膜具有良好的結合力。
鋁化學氧化
硬質氧化是把合金相應電解質作為陽極,在一定條件下和外加電流進行電解。陽極的鋁或其合金氧化,表面形成氧化膜層提高其硬度和耐磨性,可以達到5~20微米,硬質陽極氧化膜可達60~200微米。具良好的耐熱性,硬質氧化膜的熔點高達2320 K,具優良的絕緣性,耐擊穿電壓2000 V ,以提高其耐蝕性,在ω=0.03NaCl鹽霧中耐腐蝕數千小時。鋁化學氧化
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